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Erogati in lingua Inglese

Legenda
Semestre (Sem)
1Primo Semestre
2Secondo Semestre
AInsegnamento Annuale
Attività formative
CAffini o integrative
Lingua d'erogazione
Insegnamento completamente offerto in lingua italiana
Insegnamento completamente offerto in lingua inglese
--Non definita
Didattica innovativa
I CFU riportati a fianco a questo simbolo indicano la parte dei CFU dell'insegnamento erogati con Didattica Innovativa.
Tali CFU riguardano:
  • Cotutela con mondo esterno
  • Blended Learning & Flipped Classroom
  • Massive Open Online Courses (MOOC)
  • Soft Skills
Dati Insegnamento
Contesto
Anno Accademico 2014/2015
Scuola Scuola di Ingegneria Industriale e dell'Informazione
Corso di Studi (Mag.)(ord. 270) - MI (472) Chemical Engineering - Ingegneria Chimica
Piano di Studio preventivamente approvato N2A - Process engineer
Anno di Corso 1

Scheda Insegnamento
Codice Identificativo 094937
Denominazione Insegnamento THIN SOLID FILM PROCESSING
Tipo Insegnamento Monodisciplinare
Crediti Formativi Universitari (CFU) 5.0
Semestre Primo Semestre
Programma sintetico This course deals with the fundamentals underlying the production processes of thin solid films that are typical of microelectronics and of metallurgical coatings. These films are deposited onto a substrate with the aim to obtain a layer with well defined properties. All the deposition processes are studied through the so called "multiscale approach", that involves the use of different models, each one linked to the others and where the inherent time and length scales span over several orders of magnitude (i.e., from lenghts in the order of meters for the models addressing the equipments adopted for the film deposition, to that in the order of microns typical for the definition of film microstructure and finally to that in the order of nanometers typical for the models adopted to define the material properties at atomic level). Main examined processes are Atmospheric and Low Pressure Chemical Vapor Deposition (thermally activated and plasma assisted), Sputtering, Evaporation and Sublimation. Examples are taken from LPCVD of poly-Si, EPI-Si, MOCVD of III-V semiconductors, PECVD of amorphous Si, n- and p- doping of Si, LPCVD deposition of oxides and native oxides growth, etching of trenches (chemical and plasma assisted - dry etching), trench filling with SiO2 by TEOS decomposition, Sublimation and sputtering processes.
Settori Scientifico Disciplinari (SSD)
Attività formative Codice SSD Descrizione SSD CFU
C
ING-IND/23
CHIMICA FISICA APPLICATA
5.0

Orario: aggiungi e rimuoviScaglioneDocenteLingua offertaProgramma dettagliato
Da (compreso)A (escluso)
--AZZZZCavallotti Carlo Alessandro
manifesti v. 3.3.3 / 3.3.3
Area Servizi ICT
02/04/2020